IT之家 1 月 7 日消息，芯片巨頭英特爾近日喜獲業(yè)內首臺具有 0.55 數值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)光刻機，將助力其在未來幾年實現更先進的芯片制程。與之形成鮮明對比的是，另一巨頭臺積電則按兵不動，似乎并不急于加入這場下一代光刻技術的競賽。業(yè)內分析師預計，臺積電可能要到 2030 年甚至更晚才會采用這項技術。

　　英特爾此次獲得的 High-NA EUV 光刻機將首先用于學習和掌握這項技術，預計在未來兩三年內用于 18A (1.8nm 工藝)之后的芯片制程節(jié)點。相比之下，臺積電則采取了更加謹慎的策略，華興資本和 SemiAnalysis 的分析師認為，臺積電可能要到 N1.4 制程之后(預計在 2030 年后)才會采用 High-NA EUV 技術。

　　分析師 Szeho Ng 表示：“與英特爾計劃將 High-NA EUV 與 GAA 晶體管同時引入 20A 制程不同，我們預計臺積電將在 N1.4 制程之后才引入 High-NA EUV，最早也要到 2030 年以后。”

　　IT之家注意到，英特爾激進的制程路線圖包括從 20A(2nm 級)開始引入 RibbonFET 全環(huán)柵晶體管和 PowerVia 背面供電網絡，然后在 18A 進一步優(yōu)化，并在 18A 之后節(jié)點采用 High-NA EUV 光刻機，以實現更低功耗、更高性能和更小的芯片尺寸。

　　目前主流的 EUV 光刻機采用 0.33 數值孔徑(Low-NA)鏡頭，能夠在量產中實現 13 到 16 納米的關鍵尺寸，足以生產 26 納米的金屬間距和 25 到 30 納米的互聯間距。這對于 3nm 級制程來說已經足夠，但隨著制程的微縮，金屬間距將縮小到 18-21 納米(imec 數據)，這將需要 EUV 雙重曝光、圖形化刻蝕或 High-NA 單曝光等技術。

　　英特爾計劃從 20A 開始引入圖形化刻蝕，然后在 18A 之后節(jié)點采用 High-NA EUV，這可以降低工藝流程的復雜性和避免使用 EUV 雙重曝光。然而，High-NA EUV 光刻機比 Low-NA EUV 光刻機要昂貴得多，而且還有曝光面積減少一半等一系列特殊性。

　　分析人士認為，至少在初期，High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA EUV 雙重曝光，這也是臺積電暫時觀望的原因。臺積電更傾向于采用成本更低的成熟技術，以確保產品競爭力。

　　“盡管 Low-NA EUV 多重曝光會降低產能，但其成本可能仍然低于 High-NA EUV，”華興資本分析師 Szeho Ng 解釋道，“High-NA EUV 需要更高的光源功率才能驅動更精細的臨界尺寸，這會加速投影光學器件和光罩的磨損，抵消了更高產能的優(yōu)勢。這與臺積電以最具成本競爭力的技術瞄準大眾市場的策略一致。”

　　臺積電早在 2019 年就開始在芯片量產中使用 EUV 光刻機，比三星晚了幾個月，比英特爾早了幾年。英特爾希望在 High-NA EUV 領域搶先三星和臺積電，獲得一定的技術和戰(zhàn)略優(yōu)勢。如果臺積電等到 2030 年或更晚才采用 High-NA EUV，能否保住其在芯片制程工藝方面的領先地位?